一、本厂涂铟设备的简介：

本设备主要用于ITO靶材的金属化制造，它可以将铟金属均匀的渗透到靶材、背管、铜板、ITO玻璃、二氧化硅等金属与非金属表层，取代了以往用人工刮的落后技术。

使用特点：

1、 铟图层均匀，无盲点，无波纹。

2、 铟图层牢固，不会脱落。

3、 效率高：涂面积1500*190MM铜板仅需要10分钟。涂面积150*50MM的ITO玻璃仅需2分钟。

4、 节省铟金属，铟涂层在0.02MM内。

5、涂铟设备可靠耐用，可连续工作一个小时以上。

6、加热平台采用高温锻铸铝合金板材或管材，升温快，温度均匀，高温不易变形。

7、采用高精度温控仪，温段可自由设置，整体温差正负三度。

8、加热平台采用不锈钢材料制作，坚固耐用。